Was ist ein Titan-Target?
Ti-Target ist ein hochreines Titanmaterial (größer oder gleich 99,5 % Ti), das in PVD- und Sputtersystemen verwendet wird, um dünne Titan- oder Titan-basierte Filme auf Substraten abzuscheiden.
Es wird durch fortschrittliches Schmelzen, Schmieden und Präzisionsbearbeitung hergestellt, um eine hohe Dichte, eine feine Kornstruktur und eine stabile Sputterleistung zu erreichen.
Sie werden häufig in der Halbleiterfertigung, bei LCD- und OLED-Displays, Speicherelektroden, optischen Beschichtungen und dekorativen PVD-Beschichtungen eingesetzt, da sie eine hervorragende Filmhaftung, Korrosionsbeständigkeit und Beschichtungsgleichmäßigkeit bieten.
Physikalische und chemische Eigenschaften von Ti-Targets
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Eigentum |
Typischer Wert |
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Dichte |
4,50 – 4,52 g/cm³ |
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Schmelzpunkt |
1668 ± 5 Grad |
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Reinheit |
99.5% – 99.99% (2N5 – 4N) |
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Wärmeausdehnung |
8.6 × 10⁻⁶ / K |
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Mikrostruktur und interne Qualität |
Dichte größer oder gleich 99,5 % Gleichmäßige feine -Kornstruktur Keine Delamination Keine sichtbaren Einschlüsse Keine Porosität oder Risse |
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Verpackung |
Vakuumversiegeltes + Trockenmittel + stoßfestes Holzgehäuse |
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Vorlaufzeit |
2–4 Wochen für die meisten Größen |
Ti-Zielgrößenbereich
Planare und runde Ziele
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Typ |
Dicke |
Breite / Durchmesser |
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Rechteckiges Ziel |
Größer oder gleich 0,125 Zoll |
Weniger als oder gleich 12 Zoll |
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Rundes Ziel |
Größer oder gleich 0,125 Zoll |
1,0″ – 21,0″ (25,4 – 533,4 mm) |
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Rohrziel |
Größer oder gleich 0,125 Zoll |
Weniger als oder gleich 12 Zoll |
Oberflächenrauheit
- Sputteroberfläche: Ra kleiner oder gleich 1,6 μm
- Nicht-sputternde Oberfläche: Ra kleiner oder gleich 3,2 μm
Qualitätskontrolle und Inspektion
- Analyse der chemischen Zusammensetzung
- Prüfung der mechanischen Eigenschaften
- Maß- und Sichtprüfung
Bei Bedarf erhalten Sie:
- Mühlentestzertifikat (MTC)
- Inspektionsberichte
Benutzerdefinierte Titan-Target-Funktionen
Sie können Ziele vollständig anpassen:
1. Reinheitsoptionen
Von 99,5 % bis 99,999 %
2. Größe und Dicke
- Nicht-Standardgrößen werden unterstützt
- Mindestbearbeitungsstärke: 1 mm
3. Korngrößenkontrolle
- Kontrolliert durch Wärmebehandlung
- Korngröße 20 – 200 μm verfügbar
4. Verbundene Ziele
Sie können Trägerplatten wählen in:
- Kupfer (Cu)
- Aluminium (Al)
- Molybdän (Mo)
5. Oberflächenveredelung
Drehen,Schleifen,Polieren,Sandstrahlen
6. Komplexe Formen
Stufenziele,Segmentieren-gebundene Ziele,Spezielle Konturen
Häufig gestellte Fragen zu Titanzielen
Können Sputtertargets aus Titan beim Hochtemperatur- oder Hochleistungssputtern verwendet werden?
Ja.
Hoch{0}reine Ti-Targets eignen sich für die meisten Hochtemperatur-Sputterverfahren.
Für extreme Leistungsbelastungen oder die kontinuierliche industrielle Produktion bieten Targets der Güteklasse 5 (Ti-6Al-4V) eine höhere mechanische Festigkeit und thermische Stabilität.
Können Titan-Sputtertargets international exportiert werden?
Ja.
Sie können per Luft-, See- oder Expressversand (DHL, FedEx, UPS) versenden.
Alle Exportverpackungen sind -schlag-, feuchtigkeits--beständig und oxidationsgeschützt-.
Was ist der Unterschied zwischen Targets und Titan-PVD-Targets?
Titan-PVD-Targets sind speziell für hochpräzises Sputtern optimiert und bieten eine bessere Abscheidungseffizienz und Schichtgleichmäßigkeit. Standardtargets sind vielseitiger und für ein breiteres Spektrum industrieller Beschichtungsanwendungen geeignet, allerdings nicht immer für ultra-hochpräzise-PVD-Systeme optimiert.
Produktionsprozess
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